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ROC/PBT
| Zahlungsart: | L/C,T/T |
|---|---|
| Incoterm: | FOB |
| Lieferzeit: | 20 Tage |
Additional Info
Verpakung: Kartonschachtel
Transport: Ocean,Land,Air
Ort Von Zukunft: China
Versorgungsmaterial-Fähigkeit: Strong
Produktbeschreibung
Waferreinigungsmaschine zur Präzisionsreinigung von 4-12 Zoll Siliziumwafern
Geräteeinführung:
Durch den hochpräzisen Mehrachsenmanipulator wird das Produkt aus dem Magazin entnommen und mit hoher Sauberkeit in die Reinigungskammer gegeben. Durch die doppelte Zusammenarbeit von zwei Flüssigkeitssprays auf und ab und die Hochgeschwindigkeits-Zentrifugalentwässerung wird der Staubreinigungsprozess auf der Oberfläche des Produkts abgeschlossen.
Geräteanwendung und Industrie:
Es ist anwendbar auf LENS-, VCM-, LENS- und IR-Oberflächenstaubreinigungsverfahren für Chips, optisches Glas im CCM-Kameramodulverfahren.
Ausstattungsvorteile:
1. Hohe Effizienz, UPH ≥ 68 Platten / Stunde
UPH ≥ 102 Platten / Stunde
2. Hohe Ausbeute, Ausbeute ≥ 99,3%
3.Kompatibilität, kompatibel mit einer Vielzahl von Trägern
4. Hoher Marktanteil auf dem Inlandsmarkt, Stabilität und Effizienz der Geräte wurden von den Kunden anerkannt, wobei der Marktanteil an oberster Stelle steht
| Applicable stencil size | 700mm(L)×650mm(W)×1100mm(H) |
| Cleaning plate specification | 4-12 inches (optional) |
| Pure water inlet path | Ø8mm outer diameter pure water hose |
| Drainage exit path | 3/4′′ hose |
| Gas source inlet diameter | Ø12mm PU air pipe |
| Air outlet | 2.5′′ leather pipe joint (75mm outer diameter) |
| power supply | AC220V; 50HZ; 5A |
| Air filtration | One-stage 0.01μm degreasing filter; two-stage 0.01μm precision filter |
| Environmental filtering | 0.3μm; 99.99% |
| Machine net weight | About 200KG |
Produktgruppe : SMT-Reinigungsmaschine > Optische fotoelektrische Reinigungsmaschine
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