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Reinigungsgeräte für Siliziumwafer

    Zahlungsart: L/C,T/T
    Incoterm: FOB
    Lieferzeit: 20 Tage

Basisinformation

Modell: PBT-650

Additional Info

Verpakung: Kartonschachtel

Transport: Ocean,Land,Air

Ort Von Zukunft: China

Versorgungsmaterial-Fähigkeit: Strong

Produktbeschreibung


Wafer-Reinigungsmaschine zur Präzisionsreinigung von 4-12-Zoll-Siliziumwafern

Produktbeschreibung


● Verwendung bei Reinigungsvorgängen wie Wafer, CMOS-Gehäuse, Fußleiste, CCD-Schalenpulver, Verunreinigungen. Halter, Halter + IR, Linse, VCM usw.


● Steuerbare Zentrifuge mit variabler Drehzahl



Applicable stencil size 700mm(L)×650mm(W)×1100mm(H)
Cleaning plate specification 4-12 inches (optional)
Pure water inlet path Ø8mm outer diameter pure water hose
Drainage exit path 3/4′′ hose
Gas source inlet diameter Ø12mm PU air pipe
Air outlet 2.5′′ leather pipe joint (75mm outer diameter)
power supply AC220V; 50HZ; 5A
Air filtration One-stage 0.01μm degreasing filter; two-stage 0.01μm precision filter
Environmental filtering 0.3μm; 99.99%
Machine net weight About 200KG

Wafer-Reinigungsmaschine zur Präzisionsreinigung von 4-12-Zoll-Siliziumwafern





Produktgruppe : SMT-Reinigungsmaschine > Optische fotoelektrische Reinigungsmaschine

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